Quantum Northwest公司專門生產制造各種光譜分析用的溫控樣品池支架，可以在很寬的范圍內實現快速、準確的溫度控制。Quantum Northwest幾乎可以為任一光譜分析應用提供單個或多個溫控樣品池支架。客戶可以從各種產品類型中選擇或者單獨定制。
Turret 4
Turret 4是一個通用的4位可旋轉比色皿支架。Turret 4為多達四個比色皿提供從 -15 °C 到 +110 °C 的快速、精確的溫度控制。每個比色皿周圍有三個光學端口，帶有干氣吹掃功能，以限度地減少在低溫下工作時的冷凝水。每個比色皿都提供精確的步進電機驅動磁力攪拌，確保在幾乎相同的條件下研究旋轉支架中的每個樣品。
產品特點
四個比色皿位置
快速、精確的溫度控制
每個比色皿中的溫度高度均勻
每個比色皿中相同的可變磁力攪拌速度
帶有實用程序的樣品托盤被帶到前面板上
干氣吹掃
樣品溫度的探頭輸入
NIST 可溯源溫度校準
參數
比色皿數量 | 4 |
典型用途 | 吸收譜，熒光光譜 |
標準比色皿外部尺寸 | 12.5 mm x 12.5 mm |
每個比色皿的光學窗口 | 3個 |
光口尺寸 | 10 mm高 x 8 mm寬 |
內置光學狹縫 | 每個比色皿 3 個 |
開窗外殼 | 沒有 |
出廠設置溫度范圍 | -40 °C 至 +110 °C |
可輕松實現的溫度范圍 | -15 °C 至 +110 °C |
溫度精度從 ‐20 ?C 到 +110 ?C | ±0.2 ?C |
溫度重復性 | 優于 ±0.09 °C |
磁力攪拌電機式 | 每個比色皿下方的步進電機 |
磁力攪拌速度范圍 | 1-2500 rpm |
默認攪拌速度 | 1200 rpm |
攪拌速度性能 | 60-1800 rpm |
Turret 6
Turret 6 的每個比色皿周圍有三個光學端口，光線可以直接通過比色皿，另外還有一個 與入射光成90°的光學端口，用于光化學反應或熒光測量。轉臺周圍的塑料罩允許在比色皿周圍進行氣體吹掃，以排除光線或消除水分。Turret 6 在很寬的溫度范圍內提供快速、精確的溫度控制。每個比色皿中精確的步進電機驅動磁力攪拌確保在幾乎相同的條件下研究轉塔中的每個樣品。可使用-App軟件或您自己編寫的程序進行溫度控制。
產品特點
六個比色杯位置
在很寬的溫度范圍內快速、精確地控制
NIST 可溯源溫度校準
為每個比色皿提供精確的變速磁力攪拌
用于氣體吹掃的轉塔周圍的塑料護罩
輕薄的蓋子
樣品溫度的探頭輸入
參數
比色皿數量 | 6 |
典型用途 | 吸收譜，熒光光譜，圓二色譜 |
標準比色皿外部尺寸 | 12.5 mm x 12.5 mm |
每個比色皿的光學窗口 | 3個 |
光學窗口尺寸 | 10 mm高 x 8 mm寬 |
內置光學狹縫 | 每個比色皿 2 個 |
開窗外殼 | 沒有 |
出廠設置溫度范圍 | -40 °C 至 +110 °C |
可輕松實現的溫度范圍 | -20 °C 至 +110 °C |
溫度精度從 ‐20 ?C 到 +110 ?C | ±0.2 ?C |
溫度重復性 | 優于 ±0.09 °C |
匹配的熱敏電阻探頭型號 | 400 系列或 500 系列 |
磁力攪拌電機類型 | 每個比色皿下方的步進電機 |
磁力攪拌速度范圍 | 1-2500 rpm |
默認攪拌速度 | 1200 rpm |
攪拌速度性能 | 60-1800 rpm |
CD 250
CD 250 是一個獨立的樣品池，可根據需要為各種比色皿或其他樣品提供溫度控制、干氣吹掃和磁力攪拌。可用于多種比色皿，包括方形、矩形或圓柱形的比色皿，以及其他樣品，例如小板或薄片。可以根據需要設計其他支架。熔融石英窗口可以放置在樣品或比色皿的每一側，以限度地減少對流損失。主要用于吸收譜，也可使用與入射光成90°角的附加光學端口來觀察熒光或光化學反應。使用菜單按鈕操作 TC 1/單溫度控制器，通過可選程序 T-App 進行控制，或編寫您自己的控制程序。
產品特點
接受各種比色皿類型
快速、精確的溫度控制
可選的擴展溫度范圍
無應變的熔融石英窗口
90°可選光口
變速磁力攪拌
干氣吹掃
用于安裝在光學面包板上的底座
樣品溫度的探頭輸入
NIST 可溯源溫度校準
參數
比色皿數量 | 1 |
典型用途 | 吸收譜，圓二色譜，熒光光譜 |
標準比色皿外部尺寸 | 多種尺寸和款式 |
每個比色皿的光學窗口 | 2個吸收譜，1 熒光光譜 |
光學窗口尺寸 | 圓型，12 mm直徑 |
比色皿 z 高度 | 15 mm |
內置光學狹縫 | 每個比色皿 2 個 |
可用外窗 | 有 |
出廠設置溫度范圍 | -40 °C 至 +105 °C |
可輕松實現的溫度范圍 | -15 °C 至 +105 °C |
采用特殊技術的范圍 | -25 °C 至 +105 °C |
可達到的擴展溫度范圍 | 取決于比色皿 |
溫度精度 | 0 ?C 到 +80 ?C 優于 ±0.3 °C |
更大范圍精度 | ‐20 ?C 到 +110 ?C 優于 ±0.5 ?C |
溫度重復性 | 優于 ±0.07 °C |
可匹配的熱敏電阻探頭 | 400 系列或 500 系列 |
磁力攪拌電機式 | 步進 |
磁力攪拌速度范圍 | 1-2500 rpm |
默認攪拌速度 | 1200 rpm |
攪拌速度性能 | 60-1800 rpm |
Cyl 100
Cyl 100 安裝在一個簡單的底座上，為 100 mm 光程圓柱形比色皿提供溫度控制。將比色皿放在支架中并擰緊蓋子，從而用溫控表面圍繞比色皿。將兩個磁力攪拌棒放在比色皿中，每個塞子下面一個。設置溫度和攪拌速度。保持比色皿內的溫度精確、均勻。
使用 TC 1/單溫度控制器控制 Cyl 100。使用菜單按鈕或通過 Quantum Northwest 提供的程序 T-App 操作 TC 1/單溫度控制器，能夠實現復雜的溫度曲線。
產品特點
快速、精確的珀耳帖溫度控制
在池的每一端進行磁力攪拌
用于低溫工作的干氣吹掃
樣品溫度的探頭輸入
NIST 可溯源溫度校準
參數
比色皿數量 | 1 |
溫控數量 | 1 |
典型用途 | 100mm長度的吸收譜 |
標準比色皿外部尺寸 | 102.5mm |
每個比色皿的光學窗口 | 2個 |
入口直徑 | 12 mm |
出廠設置溫度范圍 | -40 °C 至 +105 °C |
可輕松實現的溫度范圍 | -20 °C 至 +110 °C |
溫度精度 | 優于±0.3 °C |
溫度重復性 | 優于 ±0.07 °C |
可匹配的熱敏電阻探頭 | 400系列或500系列 |
磁力攪拌電機類型 | 步進電機位于每個塞子下方 |
磁力攪拌速度范圍 | 1-2500 rpm |
默認攪拌速度 | 1200 rpm |
攪拌速度性能 | 60-1800 rpm |
